多様なプロセス・膜厚・膜種で 1nm~1000nmの成膜を実現

蒸着方式

蒸着方式

CVD方式

CVD方式

ALD方式

ALD方式

スパッタ方式

スパッタ方式

ご要望に最適な技術・コーティング方法をご提案、高品質な膜をご提供します

ALDロボット
CMVA series

ALDでは難しいと言われている室温での高品質な成膜が可能!

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ALD真空成膜ロボット

バレル型ALDロボット
CMVB series

ALD装置とバレル型スパッタ装置の融合

  
  
バレル型ALD真空成膜ロボット

バブリングCVDロボット
CMB series

■液体→気体
・低温で、低コスト&高品質成膜が可能
・ほとんどすべての金属酸化膜に対応
■成膜仕様
・成膜温度<300℃
・成膜速度>100nm/min
■アプリケーション例
・保護膜、絶縁膜、光学膜

バブリングCVDロボット

IBAD(イオンアシスト蒸着法)ロボット
CMVI series

■IBADによる受託成膜例
・従来技術の真空蒸着法に加え、イオン注入法を掛け合わせた、両社の持つ利点の相乗効果が見込める複合技術です。
・室温での低エネルギー照射を可能にし、タッチパネルの透明導電膜(ZnO)や高融点金属電極形成の密着性が向上。

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IBADイオンアシスト蒸着法

成膜受託サービス

多彩な工法で対応します

【ドライ】真空蒸着機・スパッタリング・CVD
【ウェット】スプレー・コーター・ディップ

膜厚100nm以下

■ALDによる受託成膜例

【成膜スペック】
ワーク:ウェハ、金属(SUS、アルミ、銅など)、樹脂、フィルム他
サイズ:一辺100mm程度あれば形状は問いません

【適応膜】
SiO2、Al2O3、TiO2、HfO等

アプリケーション例

aldアプリケーション例aldアプリケーション例
膜厚100~1000nm

■IBADによる受託成膜例

【成膜スペック】
ワークサイズ:ワークサイズ:φ100~300mm(不定形・円筒も可能)
層形成:単層膜・多層膜可能(Max.4層)        
パターン蒸着:メタルマスク対応(オプション)

【適応膜】
高融点金属、クロム、シリコン、アルミ、銅、SiO2、SiN、ZnO等

アプリケーション例
ibadアプリケーション例

ご紹介しているもの以外でも、お客様のご要望内容によっては対応可能な場合も多くございますので、まずはお気軽にご相談ください。
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