GAS PHASE気相技術

気相技術

Gas Phase

『真空・大気圧』ともに最適なメソッドで提案!

有機・無機(金属、化合物、酸化物、窒化物)の成膜が可能!膜厚1nm~10μm の緻密で高品質な成膜が可能!

Previous Cases技術加工事例

お客様のご検討されているワーク材質や膜種、膜厚から、最適な加工例をご提案しています。 クリエイティブコーティングスの気相技術は、樹脂原料・燃料電池などの『新素材・新材料』『エネルギー』、医療機具・機器などの『医療・ヘルスケア』、電子部品・新ディスプレイなどの『モバイル端末』『ウェアラブル機器』『オートモーティブ』など多様な分野で活用されています。お客様のニーズや課題解決に必要な技術がここにあります。

対象素材

有機物

お客様のご依頼

「樹脂にコーティングしたい」

高温に弱い素材にも低温での成膜が可能です

無機物

お客様のご依頼

「ガラス、セラミック、金属にコーティングしたい」

均一で密着性の良い成膜が可能です

樹脂容器

お客様のご依頼

「樹脂容器に加飾したい」

ご希望の色調、肌触り間での塗布が可能です

フィルム・ガラス

お客様のご依頼

「フィルム・ガラスに機能性を持たせたい」

UVカットや絶縁性など様々な機能性を付与できます

粉体

お客様のご依頼

「粉体にコーティングしたい」

様々な粒径をもつ粉体へ成膜することでコストダウンや機能性アップが可能です

膜種

金属膜

お客様のご依頼

「金属膜をつけたい」

純度の高い金属材料も高純度を保ったまま密着性の良い成膜が可能です

合金膜

お客様のご依頼

「合金膜をつけたい」

ご要望の組成、結晶型に合わせた成膜が可能です

酸化膜

お客様のご依頼

「酸化膜をつけたい」

反射や遮光、透明電極等多様な酸化物の成膜が可能です

膜厚

1nm(ナノ)

お客様のご依頼

「ナノオーダーの薄膜をつけたい」

緻密で均一、かつ均質な超薄膜成膜が可能です

超微粒子

お客様のご依頼

「10㎚以下の薄膜をつけたい」

10㎚の粉体へも均一、かつ均質なコーティングが可能です

〜1000nm

お客様のご依頼

「100nm~1000nmの薄膜をつけたい」

ご要望の膜厚に対して成膜が可能です

Technology system技術方式

DEPOSITION

蒸着方式

対象カタログ
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CVD

CVD方式

ALD

ALD方式

対象カタログ
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SPUTTERING

スパッタ方式

DLC

DLC方式

Coating apparatusコーティング装置

ご要望に最適な技術・コーティング方法をご提案させていただき、高品質な膜をご提供します

ALD装置/
CMVA series

ALDでは難しいと言われている低温での高品質な成膜が可能!

対象カタログ
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バレル型ALD装置/
CMVB series

ALD装置とバレル機構の融合

対象カタログ
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バブリングCVD装置/
CMB series

液体→気体
  • 低温で、低コスト&高品質成膜が可能
  • ほとんどすべての金属酸化膜に対応
成膜仕様
  • 成膜温度<300℃
  • 成膜速度>100nm/min
アプリケーション例
  • 保護膜、絶縁膜、光学膜

高周波励起DLC低温成膜装置/
CMVC series

CMVCによる
受託成膜例

従来のDLC成膜には500℃以上の高温が必要でしたが、本装置は、高周波パワーと直流高電圧を有効活用して、150℃以下の低温で密着性の良いDLC成膜が可能です。

Unitユニット

プラズマ源

ご希望のイオン、ラジカルを供給

ナノバブル発生ディスク

洗浄効果 特別な薬品を使わずに複雑な形状や微細形状に対応
殺菌、浄化効果 高濃度の酸素源/オゾン源
分離、分散効果 均一微細粒径による均一分散

Deposition Contract成膜受託サービス

多彩な工法で対応します
【ドライ】真空蒸着機・スパッタリング・CVD
【ウェット】スプレー・コーター・ディップ

ALDによる受託成膜例

成膜スペック

ワーク:300 mmウェハ、各種金属部品、各種樹脂部品・フィルム、各種粉体
サイズ:400×400×400 mm以内

適応膜

SiO2、Al2O3、TiO2、ZnO、ZrO、Nb3O5

膜厚

3~100 nm